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              本设备为双靶磁溅射控镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备
              三英寸三靶磁控溅射镀...
              三靶磁控镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备
              台式射频电源单靶磁控...
              本设备为单靶磁控镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备。本型号配备射频电源,尤其适合非金属或其他非导电材料镀膜
              桌面型下置靶不锈钢腔...
              本设备为桌面型下置靶不锈钢腔体单靶磁控溅射镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备
            • 小型电动升降样品台蒸...
              本产品为桌面型小型蒸发镀膜仪,设备安装有钨丝篮蒸发源,可提供*大100A的镀膜电流,*大蒸发温度可达1800℃,能够满足各种常见金属的蒸镀及部分非金属蒸镀
              桌面型水冷样品台蒸发...
              本产品为桌面型小型蒸发镀膜仪,设备安装有钨丝篮蒸发源,可提供*大100A的镀膜电流,*大蒸发温度可达1800℃,能够满足各种常见金属的蒸镀及部分非金属蒸镀
              桌面型不锈钢腔体蒸发...
              本产品为专为高真空设计的桌面型小型蒸发镀膜仪,可提供*大100A的镀膜电流,*大蒸发温度可达1800℃,能够满足各种常见金属的蒸镀及部分非金属蒸镀
              桌面型热蒸发镀膜仪带...
              本产品为桌面型小型蒸发镀膜仪,可提供*大100A的镀膜电流,*大蒸发温度可达1800℃,能够满足各种常见金属及部分非金属的蒸镀
            • 锂电池专用卷对卷加热...
              这种全自动卷对卷加热涂布机主要用于实验室涂布液体或胶体膜。该设备采用无级变速电机**控制涂膜速度,从而达到使样品匀速前进而均匀涂膜的目的
              实验室锂电池卷对卷加...
              这种全自动卷绕涂布机主要用于实验室涂布液体或胶体膜。该设备采用无级变速电机**控制涂膜速度,从而达到使样品匀速前进而均匀涂膜的目的。刮刀采用全不锈钢材质,重量恒定,可提高涂膜的一致性和均匀性。该设备采用具有真空吸附功能的样品台,可以平稳的吸附样品。同时涂布机具有底部加热功能,加热温度可达120℃,在涂膜过程中实现烤胶功能,从而使膜迅速地干燥,方便收卷操作。
              锂电池隔膜涂布机
              锂电池隔膜涂布机,可进行连续和间歇涂布等类型的涂布要求。设备涂布精度高,一致性稳定性好,广泛应用于锂离子电池、石墨烯薄膜、光学薄膜、陶瓷薄膜、优异胶带以及各种功能薄膜行业
              卷对卷流延涂布机
              卷对卷流延涂布机配有收放卷装置,可用于铜箔或者铝箔的连续涂膜,卷对卷流延涂布机上盖配有紫外线固化灯,可以用于膜层的固化干燥
            • 紫外线光固化匀胶机
              紫外线光固化匀胶机配有紫外线光源,能够实现对特殊膜料的固化功能,紫外线光固化匀胶机真空吸附固定,操作简单,可自由取放。
              透明亚克力匀胶机带滴...
              CY-SP4-D匀胶机经过小型化设计,整体采用铝合金结构,腔体选用透明亚克力,外观美观坚固。仪器采用先进的精密电机,*高转速能达到8000转/秒;控制依靠按键和高亮液晶屏,除直接匀胶外还能预存匀胶曲线进行程控匀胶。本仪器在极大的减小了体积的前提下有效的保障了仪器性能和功能,十分适合实验室选购。
              PP腔体八英寸匀胶机
              本型号匀胶机经过小型化设计,整体采用铝合金结构,腔体选用PP工程材料,外观美观坚固。仪器采用先进的精密电机,转速能达到10000转/分,有效的保障了成膜的均匀性。另外本仪器采用触控屏控制,可以预设匀胶曲线,大大简化了使用过程降低了学习成本,十分适合实验室选购。
              亚克力八英寸匀胶机
              本型号匀胶机经过小型化设计,整体采用铝合金结构,腔体选用透明亚克力,外观美观坚固。仪器采用先进的精密电机,转速能达到10000转/分,有效的保障了成膜的均匀性。另外本仪器采用触控屏控制,可以预设匀胶曲线,大大简化了使用过程降低了学习成本,十分适合实验室选购。
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              卷对卷PECVD石墨烯制备设备主要应用于计算机和智能手机屏幕,超轻、柔性的太阳能电池,以及新型的发光设备和其他薄膜电子产品
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              PECVD镀膜仪
              CY-PECVD-450化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,能够利用高能量等离子体促进反应过程,有效提升反应速度,降低反应温度。适用于在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂,适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件,可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
            • 桌面型二合一镀膜仪
              本产品为二合一镀膜仪,可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。尤其适合实验室SEM(扫描电镜)的样品制备
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              碳钨蒸发等离子溅射复合镀膜仪可进行真空蒸碳、真空热蒸发和等离子溅射,它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理,碳钨蒸发等离子溅射复合镀膜仪采用机械泵和分子泵,实现高真空。
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              双靶磁控及蒸发复合镀膜仪不锈钢真空腔体、磁控溅射靶,蒸发镀膜装置,放置样品的样品台,真空泵机组、真空测量规管,进气系统和控制系统组成。双靶磁控及蒸发复合镀膜仪可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。
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              等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件,不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或者其他金属单质的薄膜。仪器元件高度集成化,在同一个腔体内即实现了两种镀膜功能;本镀膜仪采用304不锈钢腔体作真空腔体,镀膜过程完全可见。仪器标配双极旋片真空泵,能够快速达到1.0E-3Pa的真空度,极限真空度1.0E-5Pa,可满足大多数蒸发镀膜实验和二极溅射实验所需的真空环境。本仪器体积小,节省空间,能够置于试验台上使用,一机多用,性价比突出,非常适合各大高校及研究机构选用。
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